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      服務(wù)熱線:
      13573190684

      ICP-EOS光譜儀廠家

      產(chǎn)品簡(jiǎn)介:ICP-EOS光譜儀廠家
      稀土行業(yè):硅工業(yè):磁性材料加工工業(yè)。
      冶金工業(yè):可分析對(duì)金屬材料質(zhì)量的影響很大AS、Bi、Pb、Sb、Sn等雜質(zhì)元素。
      水質(zhì)分析:可檢測(cè)水質(zhì)污染的八大重金屬等元素。
      地質(zhì)、礦石分析:巖石樣品中鈣、鎂、鈉、鐵、銅、錳、鋅、鈷、鎳、金、銀等元素的測(cè)定。
      石油化工和輕工領(lǐng)域的應(yīng)用。測(cè)試原油中的30多種元素,主要有Fe、Na、Mg、Ni、V、Ca、Pb、Mo、M

      更新時(shí)間:2024-04-07
      產(chǎn)品型號(hào):ICP-900
      產(chǎn)品產(chǎn)地:山東
      詳情介紹
      品牌精測(cè)價(jià)格區(qū)間20萬(wàn)-50萬(wàn)
      儀器種類順序掃描應(yīng)用領(lǐng)域食品,化工,地礦,建材,電子

      ICP-EOS光譜儀廠家

      ICP-EOS光譜儀廠家

      整機(jī)技術(shù)指標(biāo)

      掃描波長(zhǎng)范圍:180nm~500nm(3600L/mm光柵),180nm~800nm(2400L/mm光柵);

      測(cè)量范圍

      a.液體含量:0.01ppm-幾千ppm

      b.固體含量:0.001%------70%

      重復(fù)性:(即短期穩(wěn)定度)相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD≤1.5% ;

      穩(wěn)定性:相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD≤2%;

      測(cè)試速度:5-8元素/每分鐘

      典型元素檢出限(μg/L):


      配置

      1、標(biāo)準(zhǔn)串口線

      2、軟塑膠氣管

      3、交流參數(shù)穩(wěn)壓器(選配)

      4、氣體減壓閥(選配)

      5、電源線

      6、自動(dòng)溫控冷卻循環(huán)水箱(選配)

      7、接地銅板

      8、軟塑膠水管

      9、接地銅帶

      10、炬管

      11、進(jìn)口霧化器(選配)

      12、雙管形霧室

      13、國(guó)產(chǎn)霧化器

      工作環(huán)境

      內(nèi)容適應(yīng)范圍

      貯存運(yùn)輸溫度15℃-25℃

      貯存運(yùn)輸相對(duì)濕度≤70%

      電源適應(yīng)能力220±10v 50-60Hz

      工作濕度≤70%

      工作溫度15℃-30℃

      應(yīng)用領(lǐng)域

      稀土行業(yè):分辨率高、檢出限低。

      硅工業(yè):磁性材料加工工業(yè)。

      冶金工業(yè):可分析對(duì)金屬材料質(zhì)量的影響很大AS、Bi、Pb、Sb、Sn等雜質(zhì)元素。

      水質(zhì)分析:可檢測(cè)水質(zhì)污染的八大重金屬等元素。

      地質(zhì)、礦石分析:巖石樣品中鈣、鎂、鈉、鐵、銅、錳、鋅、鈷、鎳、金、銀等元素的測(cè)定。

      石油化工和輕工領(lǐng)域的應(yīng)用。測(cè)試原油中的30多種元素,主要有Fe、Na、Mg、Ni、V、Ca、Pb、Mo、Mn、Cr、Co、Ba、As等。

      醫(yī)療、衛(wèi)生、農(nóng)業(yè)環(huán)保、商品、食品質(zhì)量檢測(cè)。


      固態(tài)電源


      工作頻率:27.12MHz


      頻率穩(wěn)定性:<0.05%


      匹配方式:自動(dòng)匹配


      輸出功率:800W ~1600W,連續(xù)可調(diào),電源效率大于65%


      輸出功率穩(wěn)定性:≤0.2%


      輸出工作線圈內(nèi)徑25mm、3匝,配三同心外徑20mm的石英炬管


      同軸型霧化器外徑6mm


      掃描分光器


      光路:Czerny turner型


      焦距:1000mm


      光柵規(guī)格:離子刻蝕全息光柵,刻線密度3600L/mm或2400L/mm;刻劃面積(80×110)mm


      分辨率:≤0.008nm(3600線光柵) ≤0.015nm(2400線光柵)


      掃描波長(zhǎng)范圍:3600線光柵:(190~500) nm;2400線光柵:(190~800) nm


      電子測(cè)量及控制電路


      光電倍增管規(guī)格:R212/R928


      光電倍增管負(fù)高壓:(-50~-1000)V


      光電倍增管電流測(cè)量范圍:(10-12~10-4)A


      信號(hào)采集:VF轉(zhuǎn)換




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